摘要:
采用酸性蚀刻液与碱性蚀刻液混合中和沉淀铜的方法生产硫酸铜.试验结果表明,最佳工艺条件为:中和反应pH=6～7,酸解反应每100 g滤渣消耗95%(质量分数)硫酸30 mL,硫酸铜产率为84%,纯度为96%.混合沉淀铜后滤液中仍含有大量的氯化铵和少量的二价铜离子,实验采用水合肼还原除铜,回收滤液用于配制新的蚀刻液.水合肼还原除铜工艺条件:pH为8,滤液与水合肼体积之比为100:3,二价铜离子的去除率达到96.8%.该工艺简单可行,操作方便,成本低,是一种处理印制电路板(PCB)企业蚀刻废水、回收铜的有效方法,有一定的应用价值.
