硅钨酸共振瑞利散射光谱法测定氧化苦参碱

《分析试验室》 杨金香[1];李俊波[1];杨小丽[1];贺艳斌[1]
摘要:
在0.1mol/LHCl反应介质中,单独的硅钨酸(TS)与氧化苦参碱(OM)的共振瑞利散射(RRS)都非常微弱。当二者反应形成缔合物时将导致RRS显著增强,其最大散射峰位于393nm处。OM在1.5—26.4μg/mL范围内其浓度与RRS强度成线性关系,检出限为2.3ng/mL。方法已用于苦参素胶囊中OM的含量测定。并对反应机理及RRS与吸收光谱特征进行了比较研究。
硅钨酸 , 氧化苦参碱 , 共振瑞利散射
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