摘要:
目的：对青蒿素哌喹片中主要杂质进行初步研究。方法：采用HPLC法，以Shim—packVP—ODSC18（4．6mm×150mm，5μm）为分析柱；乙腈-水（50：50）为流动相，流速为1．0mL·min^-1；检测波长为210nm。采用LC—MS／MS高分辨质谱对其主要杂质进行结构研究并进行溯源。结果：主峰与各杂质分离良好，检测出4个主要杂质，对其中3个主要杂质进行了定性研究。为其工艺和质量控制提供了参考依据。结论：青蒿素哌喹片对酸、碱、热、光照不稳定，因而在本品生产及贮藏时应尽量避免光照及高温，防止药品发生降解。
