硫酸庆大霉素缓释片的工艺研究

来源: 《药学实践杂志》作者: 聂中越;王晓玲;程淑娟

摘要:

目的：制备硫酸庆大霉素缓释片。方法：以HPMC、丙烯酸树脂及十八醇作为辅料，采用湿颗粒制备硫酸庆大霉素缓释片。结果：本品在2、4和6h的释放量限度分别为45％～70％、60％～85％与80％以上。结论：硫酸庆大霉素缓释片在酸性溶液中具有显著的缓释作用。

关键词: 硫酸庆大霉素 , 缓释片 , 释放度 , 工艺研究